ASML y Zeiss investigan Hyper-NA, sucesora de la litografía EUV High-NA
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ASML y Zeiss desarrollan Hyper-NA, el sucesor de la litografía EUV High-NA para chips avanzados
Un estudio científico revisado por pares, recogido por Reuters el 8 de octubre, detalla cómo ASML y Zeiss investigan Hyper-NA, una tecnología de litografía que aumentaría la apertura numérica de 0,55 a al menos 0,75…